8 月 25 日，晶瑞电材在投资者互动平台表示，公司光刻胶产品达到国际中高级水准，在国内具有悠久声誉，稳定生产光刻胶近三十多年，是国内最早规模量产光刻胶的企业之一。
光刻胶是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一，高端产品的研发和生产主要由日系 JSR、信越化学、东京应化等少数公司所垄断。
晶瑞电材指出，公司承担并完成了国家 02 专项“i 线光刻胶产品开发及产业化”项目。公司为我国历史最悠久、供应量最大的光刻胶生产企业之一，产品序列齐全，产业化规模、盈利能力均处于行业领先水平，其中 g/i 线光刻胶已向中芯国际、合肥长鑫等知名大尺寸半导体厂商供货，KrF（248nm 深紫外）光刻胶完成中试，目前已进入客户测试阶段，测试通过后即可进入量产阶段。ArF 高端光刻胶研发工作已正式启动，旨在研发满足 90-28nm 芯片制程的 ArF（193nm）光刻胶，满足当前集成电路产业关键材料市场需求。