11 月 13 日消息，据日经新闻报道，尼康为了重振业绩，将转变半导体光刻机业务的战略。
据三菱 UFJ 摩根士丹利证券数据，业内最大企业荷兰 ASML 掌握了全球光刻机市场 62% 的份额，佳能排名第二占 31%，尼康排名第三占 7%。
报道称，时隔二十多年，尼康将于 2024 年投放光刻机新产品，通过寻求逆势开拓中国大陆市场，以实现卷土重来。
尼康预计 2023 财年（截至 2024 年 3 月）的合并净利润将同比减少 22%，降至 350 亿日元（备注：当前约 16.87 亿元人民币）。半导体设备相关的精机业务、相机影像业务是两大支柱，但与高端微单相机销售强劲形成对比的是，精机业务销量一直低迷。
报道还称，尼康和佳能曾在 1990 年代之前主导市场，但在最尖端的极紫外（EUV）设备的开发竞争中败给了 ASML。极紫外光刻机在 2010 年后半期实用化，全世界只有 ASML 能够生产。另一方面，尼康的经营资源分散在各种光源上，缺乏强势领域。
为了打开局面，尼康将于 2024 年夏季时隔 24 年推出采用成熟技术的光刻机新产品。使用了 1990 年代初实用化、被称为“i 线”的老一代光源技术，着眼于适合制造需要耐久性的功率半导体等的特点。有分析认为，尼康将使用通用的电子零部件等，价格能比佳能便宜 2～3 成左右。
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