4 月 24 日消息，据外媒报道，台积电仍采用鳍式场效应晶体管架构的 3nm 制程工艺，在去年的 12 月 29 日正式开始商业化生产，虽然较三星电子晚了近半年，但仍被业界看好。
对于 3nm 制程工艺，台积电管理层在一季度的财报分析师电话会议上，也有重点谈及。
在财报分析师电话会议上，台积电 CEO 魏哲家表示，他们的 3nm 制程工艺以可观的良品率量产，在高性能计算和智能手机应用需求的推动下，客户对 3nm 制程工艺的需求超过了他们的产能，他们预计今年的产能将得到充分利用。
魏哲家在会上还透露，他们的 3nm 制程工艺，预计从三季度开始就将为他们带来可观的营收，在他们今年全年晶圆代工业务收入中所占的比例预计为中等个位数。
魏哲家在会上还表示，从功耗、性能和面积及晶体管技术来看，他们的 3nm 制程工艺都是目前最先进的半导体技术，他们也因此预计客户对他们的 3nm 制程工艺的强劲需求将持续多年，他们有信心 3nm 制程工艺家族成为他们另一个大而持久的工艺节点。