7nm+/6nm/5nm随便选 AMD面临幸福的烦恼

  曾经,先进的制造工艺是 Intel 狠狠压制 AMD 乃至整个半导体行业的绝对大杀器,但现在完全反了过来。Intel 14nm 工艺遭遇前所未有危机,至今未能量产,而台积电、三星一路狂奔,10nm、7nm、5nm 相继上马。虽然不同家的工艺技术不能完全看一个单纯的数字,但不得不承认 Intel 确实被越甩越远。  

  GlobalFoundries 放弃 7nm、5nm 先进工艺研发后,AMD 转向了台积电,这次算是傍上了大树,接下来的从桌面到服务器再到笔记本,从处理器到显卡,统统都是台积电 7nm。

  7nm 之后,台积电更是还有 7nm+ EUV、6nm、5nm,可以让 AMD 随意选择,AMD 路线图上的再下代架构 Zen 3 一直标注着 7nm+ 工艺,一直让人遐想。

  台积电 7nm 工艺有两代,目前是采用传统 DUV 光刻的第一代(N7),第二代(N7+)则会首次上 EUV 极紫外光刻,已经开始试产,明年就能量产,可将晶体管密度提升 20%,能效提升 10%。

  不过,我们一直不能确定 AMD Zen 3 架构所用的 7nm+,是泛指比 7nm 更新的工艺,还是台积电口中的升级版二代 7nm,但无论哪一种,结合新架构都会带来极大的提升。

  更让人激动的是 5nm 工艺,台积电已经开始试产,将于 2020 年底之前量产,如果 Zen 4 架构能够用上,恐怕 Intel 是别想翻身了。

  按照台积电的说法,5nm 相比于 7nm 可以将晶体管密度增加多达 80%,整体性能提升 15%,同时核心面积缩小 45%。

  虽然这是在 ARM A72 核心上得到的数据,AMD Zen 上应该不会这么多,但如果真的 Zen 4、5nm 双剑合璧,简直不敢想象结果会有多美。

  当然还有 6nm 工艺可选,明年第一季度试产,相比 7nm 晶体管密度可提升 18%,而且平台完全兼容 7nm,升级迁移更加容易。

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风君子

独自遨游何稽首 揭天掀地慰生平

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