IT之家 6 月 10 日消息 界面新闻报道，近期，上海微电子装备 集团)股份有限公司披露，将在 2021-2022 年交付第一台 28nm 工艺的国产沉浸式光刻机。国产光刻机将从此前的 90nm 工艺一举突破到 28nm 工艺。
IT之家了解到，上海微电子装备 集团)股份有限公司 简称 SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD 面板、MEMS、LED、Power Devices 等制造领域。
目前上海微电子光刻机产品包括 IC 前道制造 SSX600 系列光刻机；IC 后道先进封装 SSB500 系列光刻机； LED、MEMS、Power Devices 制造 SSB300 系列光刻机； TFT 曝光 SSB200 系列光刻机。
其中，SSX600 系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于 8 寸线或 12 寸线的大规模工业生产。
