3 月 29 日消息，3 月 29 日，清华大学发布了等离子体刻蚀机采购项目公开招标公告。
该公告显示，清华大学现对等离子体刻蚀机采购项目进行国内公开招标，欲采购 1 套等离子体刻蚀机，采购预算为 165 万元。
设备用途介绍 ：
该等离子体刻蚀机用于刻蚀薄膜铌酸锂晶圆，从而加工基于薄膜铌酸锂晶圆的电光器件。
简要技术指标 ：
真空系统：★分子泵抽速≥1300L / s，干泵抽速≥100m3 / h；
下电极：★满足 8 英寸样品刻蚀需要，更小样品或碎片可贴片装载；
软件和控制系统：★自主版权的软件，Windows 操作系统软件；
机台工艺能力：★主要用于刻蚀薄膜铌酸锂材料、介质材料等。