消息称英特尔考虑引入 DSA 技术辅助 High NA EUV 光刻,提升图案质量

4 月 19 日消息,综合外媒 SemiAnalysis 和 The Elec 报道,英特尔考虑在未来的 High NA EUV 光刻节点导入定向自组装 DSA 技术进行辅助。 DSA 是两项被认为可 … Continue reading 消息称英特尔考虑引入 DSA 技术辅助 High NA EUV 光刻,提升图案质量