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消息指三星电子 2nm 工艺 EUV 曝光层数增加 30% 以上，未来 SF1.4 节点有望超 30 层

7 月 23 日消息，韩媒 The Elec 本月 17 日报道称，三星电子预计于明年推出的 2nm 先进制程将较现有 3nm 工艺增加 30% 以上的 EUV 曝光层数，达“20~30 的中后半段” … Continue reading 消息指三星电子 2nm 工艺 EUV 曝光层数增加 30% 以上，未来 SF1.4 节点有望超 30 层

阿斯麦向客户交付第二台High NA EUV光刻机，买家身份成谜

IT之家 4 月 18 日消息，荷兰半导体设备制造商阿斯麦（ASML）近日向一家未披露名称的公司交付了其第二台高数值孔径 (NA) 极紫外 (EUV) 光刻机。 这台高端光刻机旨在制造比当前低 NA … Continue reading 阿斯麦向客户交付第二台High NA EUV光刻机，买家身份成谜

ASML CEO承诺年底前交付首台High-NA EUV光刻机 每台售价3亿美元

IT之家 9 月 6 日消息，ASML 首席执行官 Peter Wennink 近日在接受路透社采访时表示，尽管供应商出现了一些阻碍，但公司仍会按照此前设定的计划，在今年年底之前交付 High NA … Continue reading ASML CEO承诺年底前交付首台High-NA EUV光刻机 每台售价3亿美元

阿斯麦CEO：不卖EUV给中国大陆“是政府们的选择”

【文/观察者网 吕栋】 “这不是我们的选择，而是政府们（《瓦森纳协定》成员国）的选择。”日前，荷兰光刻机巨头阿斯麦CEO温彼得再次就向中国大陆出口EUV光刻机一事解释道。他今年1月曾表示，中国不太可能 … Continue reading 阿斯麦CEO：不卖EUV给中国大陆“是政府们的选择”

每台售价2亿美元 阿斯麦的EUV光刻机为什么别人还造不了

3月24日消息，在荷兰南部靠近比利时边境的维尔德霍温镇，坐落着全世界唯一一家能够组装EUV（极紫外）光刻机的工厂。 世界上最大的芯片制造商们都需要这种设备。在生产处理器芯片的过程中，EUV光刻机最昂贵 … Continue reading 每台售价2亿美元 阿斯麦的EUV光刻机为什么别人还造不了

Counterpoint：高数值孔径 EUV 系统将成 ASML 增长新突破口

Counterpoint 发布的最新报告显示，由于 5G、物联网、云计算、高性能计算、汽车芯片和其他领域的需求增加，预计到 2030 年半导体行业收入将达到 1 万亿美元左右。随着技术节点缩小，DUV … Continue reading Counterpoint：高数值孔径 EUV 系统将成 ASML 增长新突破口

韩国公司开发首款 EUV 光刻胶通过三星可靠性测试：打破完全依赖海外供应商的局面

韩国光刻胶供应商东进世美肯 Dongjin Semichem) 表示，近日通过了三星电子的 EUV 光刻胶可靠性测试（合格）。这款光刻胶为双方合作研发，打破韩国 EUV 光刻胶完全依赖海外供应商的局面 … Continue reading 韩国公司开发首款 EUV 光刻胶通过三星可靠性测试：打破完全依赖海外供应商的局面

三星电子开始采用EUV技术批量生产14纳米DRAM芯片

10月12日消息，据外媒报道，全球最大存储芯片制造商三星电子周二宣布，该公司开始使用极紫外光刻（EUV）技术批量生产业界最小的14纳米DRAM芯片，这有助于其巩固在存储行业的领导地位。 继去年3月出货 … Continue reading 三星电子开始采用EUV技术批量生产14纳米DRAM芯片