标签： 光刻

2025搞定2nm工艺 成立一年的日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻机

快科技5月17日消息，原本已经落后的日本半导体制造行业近年来加快了追赶速度，去年8月份索尼、丰田等8家企业出资成立了Rapidus，计划2025年试产2nm工艺，而且很快就筹备了EUV光刻机。 日本当 … Continue reading 2025搞定2nm工艺 成立一年的日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻机

光刻胶中国能生产吗光刻工艺流程

光刻胶中国能生产，不过现在光刻胶不是很普遍，所以了解到的也很少。光刻胶作为新的半导体的一个配件，制作的难度也是可想而知的。但是中国是正发展中国家，虽然比不上已发展的国家，但是也是大国，要相信国家的技术 … Continue reading 光刻胶中国能生产吗光刻工艺流程

自主研发 南大光电国产高端光刻胶通过认证 已经用于50nm工艺

快科技4月10日消息，南大广电在互动平台表示，该公司自主研发的高端ArF光刻胶已经通过了客户认证，并少量销售。 南大光电表示，公司已有两款ArF光刻胶产品分别在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55n … Continue reading 自主研发 南大光电国产高端光刻胶通过认证 已经用于50nm工艺

努比亚Z50 Ultra星空典藏版公布：纳米级光刻纹理AG玻璃

努比亚手机今日官宣，将推出努比亚Z50 Ultra星空典藏版。 据介绍，新机采用全球唯一环保玻璃立体蚀刻工艺，配合纳米级光刻纹理AG玻璃材质，带来科技与艺术的碰撞。 这项设计的灵感来自于荷兰后印象派画 … Continue reading 努比亚Z50 Ultra星空典藏版公布：纳米级光刻纹理AG玻璃

佳能推出晶圆测量机新品 MS-001：比光刻机精度更高，可提高生产效率

感谢网友 肖战割割 的线索投递！ 2 月 21 日消息，在逻辑、存储器、CMOS 传感器等尖端半导体领域，制造工艺日趋复杂，半导体元器件制造厂商为了制造出高精度的半导体元器件，需要提高套刻的精度，因而 … Continue reading 佳能推出晶圆测量机新品 MS-001：比光刻机精度更高，可提高生产效率

追赶台积电！三星推动开发高端EUV薄膜

光罩薄膜是极紫外 EUV) 光刻工艺中的关键部件，指的是在光罩上展开一层薄膜，然后机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路，以免光罩受空气中微尘或挥发性气体的污染，减少光掩模的损坏。 目前，光罩薄膜的供应商 … Continue reading 追赶台积电！三星推动开发高端EUV薄膜

ASML新一代高NA EUV光刻机造价2500亿：Intel一年赚的钱不够买一台

荷兰ASML（阿斯麦）正在全力研制划时代的新光刻机high-NA EUV设备。 所谓high-NA即高数值孔径，从当前的0.33提升到0.55，从而允许更紧密的电路图案（2nm及以下）和更高的生产效率 … Continue reading ASML新一代高NA EUV光刻机造价2500亿：Intel一年赚的钱不够买一台

首创3D纳米浮雕光刻！联想YOGA Pro 14s王一博定制版亮相

今日，联想YOGA向大家展示了YOGA Pro 14s王一博定制版笔记本，该机将于今晚18:30的联想消费生态星光直播夜限量发售。 据官方介绍，新本采用首创的3D纳米浮雕光刻技术，在A面重构出几何金属 … Continue reading 首创3D纳米浮雕光刻！联想YOGA Pro 14s王一博定制版亮相

Intel首代EUV工艺来了！14代酷睿年底流片：5芯合1

在EUV光刻工艺上，Intel此前承认他们过去翻错了，让台积电、三星抢先了，毕竟Intel是最早研发EUV工艺的半导体公司之一，现在Intel可以追上来了，今年底就首次使用EUV的Intel 4工艺就 … Continue reading Intel首代EUV工艺来了！14代酷睿年底流片：5芯合1