三星电子获美国《CHIPS》法案补贴“缩水”背后:取消先进封装产能规划,重点关注 2nm

12 月 26 日消息,美国商务部此前于当地时间 12 月 20 日正式宣布,将根据《CHIPS》法案激励计划提供高达 47.45 亿美元(备注:当前约 346.37 亿元人民币)的直接资金,补贴规模 … Continue reading 三星电子获美国《CHIPS》法案补贴“缩水”背后:取消先进封装产能规划,重点关注 2nm

Rapidus 会长东哲郎:2nm 试产线 2025 年 3 月底前设备就绪,4 月启动

12 月 13 日消息,据《日本经济新闻》报道,日本先进半导体制造商 Rapidus 的会长东哲郎本月 11 日在 SEMICON Japan 展会开幕式上致辞时表示对该企业的 2nm 试产线充满信心 … Continue reading Rapidus 会长东哲郎:2nm 试产线 2025 年 3 月底前设备就绪,4 月启动

日本先进芯片制造商 Rapidus:若 2nm 量产顺利,计划建设 1.4nm 第二晶圆厂

10 月 25 日消息,据日本共同社、《日本经济新闻》当地时间昨日报道,日本先进芯片制造商 Rapidus 社长小池淳义称,若 2nm 制程量产顺利计划建设更为先进的 1.4nm 工艺第二晶圆厂。 小 … Continue reading 日本先进芯片制造商 Rapidus:若 2nm 量产顺利,计划建设 1.4nm 第二晶圆厂

英特尔 Clearwater Forest 处理器实物首度现身,配备 18A 制程计算模块

9 月 26 日消息,据外媒 Tom’s Hardware 报道,英特尔上周在美国俄勒冈州波特兰市举行的 Enterprise Tech Tour 活动上首次展示了下一代至强能效核处理器& … Continue reading 英特尔 Clearwater Forest 处理器实物首度现身,配备 18A 制程计算模块

消息称苹果、OpenAI 成为台积电 A16 制程首批客户

9 月 2 日消息,台媒《经济日报》今日报道称,台积电定于 2026 下半年量产的 A16 工艺已收获首批客户:除已预定首批产能的长期合作伙伴苹果外,OpenAI 也为自家 AI 芯片下达预订单。 A … Continue reading 消息称苹果、OpenAI 成为台积电 A16 制程首批客户

消息称英特尔双边押宝 Nova Lake 处理器工艺:有望采用 Intel 14A,也已在台积电开案

8 月 6 日消息,据台媒《工商时报》报道,英特尔已针对未来 Nova Lake 消费级处理器在台积电开案,同时内部也在观察 Intel 14A 制程研发进度,评估采用自家工艺的可行性。 英特尔尚未官 … Continue reading 消息称英特尔双边押宝 Nova Lake 处理器工艺:有望采用 Intel 14A,也已在台积电开案

消息指台积电 2025 年 5nm、3nm 制程涨价 3%~5%,已于 7 月通知客户

感谢网友 菜狗 的线索投递!  8 月 6 日消息,台媒《电子时报》今日援引 IC(集成电路)设计业者的话报道称,台积电已于 7 月下旬陆续通知多家客户,2025 年 5nm、3nm 两大先 … Continue reading 消息指台积电 2025 年 5nm、3nm 制程涨价 3%~5%,已于 7 月通知客户

英特尔再次确认未来 Intel 10A 节点,Intel 14A 制程进展顺利

8 月 2 日消息,英特尔 CEO 帕特・基辛格在 2024 财年第二财季财报公布后的投资者电话会议上再次确认了 Intel 10A 这一尚未正式官宣制程节点的存在。 他表示: 除了 Intel 18 … Continue reading 英特尔再次确认未来 Intel 10A 节点,Intel 14A 制程进展顺利

imec 宣布牵头建设亚 2nm 制程 NanoIC 中试线,项目将获 25 亿欧元资金支持

5 月 21 日消息,比利时 imec 微电子研究中心今日宣布将牵头建设 NanoIC 中试线。 该先进制程试验线项目预计将获得共计 25 亿欧元(备注:当前约 196.5 亿元人民币)的公 … Continue reading imec 宣布牵头建设亚 2nm 制程 NanoIC 中试线,项目将获 25 亿欧元资金支持

消息称英特尔考虑引入 DSA 技术辅助 High NA EUV 光刻,提升图案质量

4 月 19 日消息,综合外媒 SemiAnalysis 和 The Elec 报道,英特尔考虑在未来的 High NA EUV 光刻节点导入定向自组装 DSA 技术进行辅助。 DSA 是两项被认为可 … Continue reading 消息称英特尔考虑引入 DSA 技术辅助 High NA EUV 光刻,提升图案质量